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    PVD真空鍍膜設備工藝介紹

    發布日期:2022-12-07

       PVD真空鍍膜設備鍍膜技術是在真空腔體中將鈦、金、銀、石墨、水晶等金屬或非金屬、化合物、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上沉積一層薄薄膜層表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比,pvd鍍膜機有很多優點:如對環境無污染,是綠色環保工藝;對操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強,膜厚均勻,顏色靚麗,改變其功能性能等。

     PVD技術中經常使用的方法主要有:蒸發鍍膜(包括電弧蒸發、電子槍蒸發、電阻絲蒸發等技術)、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術),這些方法統稱物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),簡稱為PVD。行業內通常所說的“IP”(ion plating)離子鍍膜,是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用,為了強調離子的作用,而統稱為離子鍍膜。

    真空鍍膜機

          PVD真空鍍膜設備又分很多種類,常見的有裝飾真空鍍膜設備、功能性真空鍍膜設備、汽車零部件真空鍍膜設備、連續式真空鍍膜設備、卷繞真空鍍膜設備,設備所投入使用領域不一樣,所都鍍制的膜層效果不一樣,選擇的真空鍍膜設備類型不一樣。目前市場裝飾真空鍍膜設備占比高,但是也是市場Z常規的鍍膜設備。近幾年,隨著汽車新能源的發展,市場上目前相對較熱門的設備,數復合集流體復合銅箔鍍膜設備和雙極板真空鍍膜設備,技術工藝要求較高,較嚴格,成本也相對來說較高。


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